本研究室生が2018年秋の応用物理学会@名古屋でポスター発表をしました(9月18日)

左から工藤君、田村君、荻上君

アモルファスカーボンを用いた不揮発性抵抗変化型メモリの検討
M1 工藤直輝君

トルエンを用いた2ゾーンCVDによる銅表面上へのナノカーボン低温堆積
M1 荻上 哲君

電流印加固相析出によるSiO2上への多層グラフェンの直接形成
M1 田村智洋君